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國產 “光刻廠” 落地？官方正式回應！
近期，一則消息在各大視頻平臺廣為傳播，稱清華大學EUV項目把ASML的光刻機巨大化，實現(xiàn)了光刻機國產化，并表示這個項目已經在雄安新區(qū)落地。
對此，中國電子工程設計院有限公司（下稱中國電子院）9月18日發(fā)聲，稱該項目并非網傳的國產光刻機工廠，而是北京高能同步輻射光源項目（HEPS）。
北京高能同步輻射光源項目實拍圖
HEPS是干嘛用的呢？它的作用是通過加速器將電子束加速到6GeV，然后注入周長1360米的儲存環(huán)，用接近光速的速度保持運轉。電子束在儲存環(huán)的不同位置通過彎轉磁鐵或者各種插入件時就會沿著偏轉軌道切線的方向，釋放出穩(wěn)定、高能量、高亮度的光，也就是同步輻射光。
中國電子院解釋稱，HEPS可以看成是一個超精密、超高速、具有強大穿透力的巨型X光機，它產生的小光束可以穿透物質、深入內部進行立體掃描，從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界，HEPS是進行科學實驗的大科學裝置，并不是網傳的光刻機工廠。
中國電子院稱，該項目由全國勘察設計大師、國投集團首席科學家婁宇帶隊，中國電子院多個技術科研和設計團隊協(xié)同合作，從項目可研立項到項目落地攻克了多項技術和工藝難關。目前高能同步輻射光源配套工程已全面完工。
“光刻廠”還能實現(xiàn)嗎？
大家都知道光刻機是通過特定光線照射在涂有光刻膠的晶圓上產生化學反應，實現(xiàn)將設計好的電路打印在芯片上。
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